介紹了脈沖激光沉積技術(shù)的發(fā)展過程

發(fā)展過程：

  脈沖激光沉積的研究和發(fā)展處處受制。實(shí)際上，當(dāng)時(shí)激光技術(shù)還不夠成熟，可獲得的激光種類有限，輸出的激光既不穩(wěn)定又重復(fù)頻率又過低，使得任何實(shí)際的膜形成工藝都無法實(shí)施。因而，PLD在薄膜制造領(lǐng)域的發(fā)展相對(duì)滯后。作為一個(gè)例子，分子束外延(MBE)可以得到更好的薄膜質(zhì)素。

  近十年來，激光技術(shù)的迅猛發(fā)展，使PLD的競(jìng)爭(zhēng)力不斷提高。同以往的紅寶石激光器相比，當(dāng)時(shí)的激光具有更高的重復(fù)頻率，使得薄膜制備成為可能。因此，可靠的電子Q開關(guān)激光器可以產(chǎn)生非常短的激光脈沖。這樣，PLD就可以在一定程度上實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的蒸發(fā)和沉積化學(xué)計(jì)量膜。因?yàn)樽贤夤庹丈洌∧の盏纳疃容^淺。在這以后，高效率諧波激光器和激基分子激光甚至能產(chǎn)生強(qiáng)紫外輻射。此后，非熱激光熔靶物質(zhì)的應(yīng)用就變得極其有效。

脈沖激光沉積好處：

1.易于獲得預(yù)期化學(xué)計(jì)量比的多組分薄膜，即保存度好。

2.沉積速度快，測(cè)試周期短，基片溫度要求低，所制膜均勻。

工藝參數(shù)可任意調(diào)整，不受靶材種類限制。

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5.可制備各種薄膜材料，便于清洗處理。

  以上就是小編為大家介紹的脈沖激光沉積的發(fā)展過程，感謝大家耐心的閱讀！