用于沉積納米級(jí)薄膜、納米粉末包覆、長(zhǎng)深孔樣品鍍膜。 具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產(chǎn)型ALD。 具備近100種膜層工藝。

外延生長(zhǎng)二維材料以及拓?fù)洳牧稀⒀趸铩⒌锏龋鏘II-V 族,II-VI 族,Si/SiGe ,金屬與金屬氧化物及GaN,AlN, AlGaN, InGaN, AlGaInN,CIGS，OLED 等

利用激光轟擊靶材沉積異質(zhì)結(jié)構(gòu)金屬氧化物（如Fe/SrTiO3、Nb/SrTiO3、BiFeO3等）、高溫超導(dǎo)材料、硅氧化物、高K氧化物、金屬氮化物、鐵電材料等

蒸銦專用設(shè)備，滿足高品質(zhì)銦柱沉積的需要，具有成熟的蒸銦的工藝，具有優(yōu)化的Lift-off工藝設(shè)計(jì)，滿足高厚度、回流、倒裝冷焊的工藝前道要求。

多功能Cluster團(tuán)簇式薄膜沉積/刻蝕系統(tǒng)MBE/PLD/ALD/ICP/RIE/Sputter/IBE/EBE