v  功能特點(diǎn)

ü  本底真空-8Torr-10Torr

ü 四軸樣品臺，XYZ方向均可調(diào)節(jié)，可傾斜，可旋轉(zhuǎn)

ü  多靶位靶材臺，帶水冷，支持多4個(gè)靶位，可旋轉(zhuǎn)切換靶位

ü  RFICP射頻離子源

ü霍爾或考夫曼輔助離子源

ü  雙掩膜Dual mask

ü  UpStream/Downstream控制

ü  膜厚監(jiān)控儀

ü  可增加OES等離子發(fā)射光譜儀定性分析等離子成分

ü  可增加RGA四極質(zhì)譜儀

ü  可集成磁控濺射陰極，實(shí)現(xiàn)磁控濺射鍍膜功能

ü  可增加進(jìn)樣室，手動/自動上下片基片

ü  可實(shí)現(xiàn)離子束沉積、離子束刻蝕和磁控濺射多功能系統(tǒng)

（可根據(jù)客戶要求定制）